麻将胡了2上海前路铜互连电镀设备荣获第五届“集成电路产业技术创新奖”
2022/7/11 9:49:52
7月9日,麻将胡了2上海与国内主流集成电路造作厂商上;ι瓯ǖ“前路铜互连电镀设备”获得中国集成电路创新同牛耳办的第五届“集成电路产业技术创新奖”的成就产业化奖项。这份荣誉注定了该项目在集成电路技术创新和产业化方面获得的凸起业绩。
麻将胡了2上海自主开发了针对65-22nm及以下工艺技术节点的芯片造作前路铜互连镀铜技术及设备(Ultra ECP map),选取独家专利的多阳极部门电镀技术的新型电流节造步骤,实现了在超薄籽晶层上实现无空穴填充,重要利用于集成电路双大马士革互连结构金属铜层沉积利用,除了合用于65-28nm工艺技术节点之表,还能够拓展至更先进造程迪胲电镀工艺利用。
麻将胡了2上海的Ultra ECP map设备是上海研发的首台前路铜互连电镀设备,继美国Lam、AMAT后全球第三家占有该技术的设备商。目前该设备产业化成就颇丰,已进入多家逻辑电路客户和存储电路客户端,通过了55/40/28/22nm工艺机能验证,已进入量产验证,并已部门实现产线量产。
该设备从开发到成功产业化,离不建国内主流集成电路造作厂商上;Φ拇罅π。麻将胡了2上海与上;Φ墓ひ蘸蜕璞竿哦庸餐,并肩作战,通过一年半的数十轮的测试,跑通了数千片非图形片和近500片图形片的测试验证,先后在硬件、软件、工艺方面进行了百余项改进;同时,国内大客户以大出产线量产的尺度要求麻将胡了2上海的电镀设备,极大推进和援手了设备和工艺急剧改进。通过该设备的开发,双方走出了一条上海发现、上海研发、上海验证、上海大出产的创新路路,是国内集成电路设备企业和集成电路造作企业携手创新,合作共赢,引领高端集成电路设备技术发展的范例。